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產(chǎn)品簡介:微型PECVD系統(tǒng)采用?3"×16"的石英腔體,內(nèi)部設(shè)有加熱圈對樣品進(jìn)行加熱,溫度可以達(dá)到400℃,且采用程序化控溫,系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機(jī)械泵,整套系統(tǒng)安放于移動架上,便于實(shí)驗操作
產(chǎn)品簡介:鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成
產(chǎn)品簡介:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
產(chǎn)品簡介:VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
產(chǎn)品簡介:OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門用于PVD或CSS法制作薄膜